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        6. 關(guān)于MOS平帶電壓詳細(xì)解析
          • 發(fā)布時間:2022-06-24 15:58:48
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          關(guān)于MOS平帶電壓詳細(xì)解析
          MOS
          平帶電壓
          平帶電壓(Flat band voltage)就是在MOS系統(tǒng)中,使半導(dǎo)體表面能帶拉平(呈平帶狀態(tài))所需要外加的電壓。
          平帶狀態(tài)一般是指理想MOS系統(tǒng)中各個區(qū)域的能帶都是拉平的一種狀態(tài)。
          對于實際的MOS系統(tǒng),由于金屬-半導(dǎo)體功函數(shù)差φms和Si-SiO2系統(tǒng)中電荷Qf 的影響, 在外加?xùn)艠O電壓為0 時,半導(dǎo)體表面的能帶即發(fā)生了彎曲,從而這時需要另外再加上一定的電壓才能使能帶拉平,這個額外所加的電壓就稱為平帶電壓。
          平帶電壓計算
          平帶電壓可分為兩部分相加,Vfb=Vfb1+Vfb2,Vfb1用來抵消功函數(shù)差的影響,Vfb2用來消除氧化層及界面電荷的影響。
          1)Vfb1
          Vfb1=φms=φg-φf
          對于多晶硅柵,高摻雜的情況下,φg≈0.56V,+用于p型柵,-用于n型柵。
          φf是相對于本征費米能級的費米勢。
          2)Vfb2
          以固定的有效界面電荷Q0來等效所有各類電荷作用,Vfb2=-Q0/Cox。
          Cox為單位面積氧化層電容,可用ε0/dox求得。
          總結(jié)起來,Vfb=φg-φf-Q0/Cox。
          MOS的閾值電壓是指使半導(dǎo)體表面產(chǎn)生反型層(即溝道)時所需要外加的柵極電壓。
          如果存在平帶電壓,柵壓超過平帶電壓的有效電壓使得半導(dǎo)體表面出現(xiàn)空間電荷層(耗盡層),然后再進(jìn)一步產(chǎn)生反型層;故總的閾值電壓中需要增加一個平帶電壓部分。
          由于平帶電壓中包含有Si-SiO2系統(tǒng)中電荷Qf 的影響,而這些電荷與工藝因素關(guān)系很大,故在制作工藝過程中需要特別注意Na離子等的沾污,以便于控制或者獲得預(yù)期的閾值電壓。
          平帶電壓測定
          對于體相的半導(dǎo)體材料而言,我們可以通過Mott-Schottly公式推算,進(jìn)行簡化戳通過作圖大體上計算出其平帶電位,但是對于納米級別的半導(dǎo)體材料則主要是通過儀器的直接測定。
          電化學(xué)方法:在三電極體系下,使用入射光激發(fā)半導(dǎo)體電極,并改變電極上的電勢。當(dāng)施加的電位比平帶電位偏負(fù)的時候,光生電子不能夠進(jìn)入外電路,也就是說不會產(chǎn)生光電流。
          相反,當(dāng)施加的電位比平帶電位偏正的時候,光生電子則能偶進(jìn)入外電路,進(jìn)而產(chǎn)生光電流。所以開始產(chǎn)生光電流的電勢即為該納米半導(dǎo)體的平帶電位。
          光譜電化學(xué)方法:該方法同樣是在三電極體系下,對半導(dǎo)體納米晶施加不同的電位,測量其在固定波長下吸光度的變化。基本的原理與電化學(xué)方法大體相同。
          當(dāng)電極電位比平帶電位正時,吸光度不發(fā)生變化;偏負(fù)時則急劇上升。因為,吸光度開始急劇上升的電位即為納米半導(dǎo)體的平帶電位。
          MOS平帶電壓
          M、O、S三者接觸前,本來半導(dǎo)體帶是平的,接觸以后不平了。想知道平帶電壓是什么,要先搞清楚使得能帶由平變彎的因素是什么。之后加一個等效的柵壓,把能帶再一次給掰回去、掰平,這個電壓就是平帶電壓。
          M、O、S三者接觸前,氧化層兩端電勢相等,也就是Vox=0;半導(dǎo)體能帶不彎曲,也就是Φs=0。
          但是,MOS一接觸,Vox和Φs都不等于零了,這其實是兩大類機理共同作用產(chǎn)生:
          1.金屬跟半導(dǎo)體功函數(shù)的差,分配在了Vox和Φs上。
          2.絕緣層電荷+界面態(tài)電荷所形成的電場,產(chǎn)生了Vox和Φs。
          對于絕緣層電荷,還包括a)氧化不完全產(chǎn)生的近OS界面處的固定正電荷。b)自由金屬雜質(zhì)正電荷。3)高能電子撞擊等因素產(chǎn)生的整個氧化層內(nèi)的缺陷電荷。
          如果僅有因素1,即MOS是無缺陷電荷的,那么很好理解,加一個大小等于金屬半導(dǎo)體的功函數(shù)差的柵壓,能帶就又平了。不僅如此,分配給Vox的勢差也一樣沒有了。
          如果僅有因素2,即金屬跟半導(dǎo)體的功函數(shù)相等。那么,想要半導(dǎo)體能帶平,需要半導(dǎo)體處無電場,也即柵極提供與缺陷態(tài)電荷等量反號的電荷。但這時候,絕緣層內(nèi)仍有電場,因此Vox仍不為零。
          對于第二類情況的平帶電壓計算,Vfb=Q[四類缺陷電荷]/C[與柵與缺陷點的距離成反比]。對于絕緣層內(nèi)不同位置的缺陷電荷,它對柵極電壓的影響不同(Vfb=Ex[有效])。
          因此,對所有電荷,只需要表示出橫向上的總電荷密度,(x*電荷密度*dx)在整個絕緣層區(qū)域內(nèi)積分,即可得平帶電壓。
          如果MOS同時具有因素1和因素2,那只需要將上述兩類機理產(chǎn)生的平帶電壓加和,即可得平帶電壓。
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